Китай собрал прототип EUV-литографической машины

По данным расследования, проект реализовывался в условиях повышенной секретности и включал бывших инженеров ASML, которые участвовали в сборке машины и адаптации технологии.

Прототип уже прошёл этап начальных работ и активно тестируется. Однако он ещё не способен производить полностью готовые чипы — для этого требуется дальнейшая доработка и преодоление технологических препятствий, в частности в области оптических систем.

📆 Планы и вызовы

Китайские власти и научные институты планируют довести проект до стадии коммерческого производства в ближайшие годы. Первые рабочие чипы с использованием собственной EUV-машины ожидаются к 2028–2030 годам, хотя аналитики считают, что это может занять больше времени из-за сложности технологии.

🌐 Значение для мировой индустрии

EUV-литография считается ключевым узлом технологического лидерства в полупроводниковой отрасли. Сегодня мировым монополистом по производству таких систем остаётся голландская ASML, и доступ к её оборудованию для Китая сильно ограничен из-за экспортных санкций. Прототип в Шэньчжэне демонстрирует реальный прогресс Китая в попытках снизить зависимость от западных технологий, что может постепенно изменить расстановку сил в мировом полупроводниковом рынке.